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CP300 半自動プローブステージ


対象 12インチウェーハ 高精度試験の要求

サポート -60℃~300℃の超広い温度範囲 テスト

満たすことができる IC設計検証、故障解析、ウェーハレベルの信頼性試験 厳しい要求を待つ





所属分类:

CPシリーズ半自動プローブステーション

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  • CP300シリーズ|12インチ半自動プローブステージ

    基本情報

    製品型番 CP300シリーズ 適用ウェーハ 300ミリメートル(12インチ)
    電力需要 220V、50~60Hz 操作方法 半自動
    温度制御範囲 -60℃~300℃ アプリケーションの種類 DC/RF/シリコンフォトニクス/ミリ波

    応用分野

    CP300シリーズのプローブステーションは、主に300mmウェハ上のチップテストを対象としており、DC‑IV/DC‑CV/パルスIV測定、シリコン光デバイスの検査、RFおよびミリ波測定、4ポート測定などの用途に広く活用できます。本装置は広い温度範囲でのIC設計検証および故障解析に対応し、ウェハレベルの信頼性試験要件を満たします。また、マイクロポジショナー、プローブカードおよび各種測定機器と組み合わせることで、効率的かつ安定したオンウェハ測定を実現します。

    技術的特徴

    1. 各種チップのテスト用途に特化して設計されています

    DC-IV/CV、パルスIV、シリコン光デバイスの解析をサポートし、RF/ミリ波/4ポート測定に対応。IC設計検証を実施でき、−60℃~300℃の広い温度範囲における信頼性評価およびウェーハレベルの信頼性試験にも対応します。

    2. 強力な互換性と拡張・アップグレード機能

    マイクロポジショナーおよびカスタムプローブカードと互換性を備え、低温下でも安定した動作を実現します。顕微鏡によるプログラマブルな自動化をサポートし、短いケーブルと最適化されたミリ波経路により信号の高精度を確保します。また、7×24時間の連続的なオンチップ検査が可能です。

    3. 人間工学に基づいた設計

    正面から容易に供給でき、独自の受動式防振機能を備えています。ウェーハの搬送が安定しており、システムへの組み込みも簡単で、設置面積もさらに小さくなります。専用の計測器ホルダーにより配線が短縮され、測定精度が一層向上します。

    CP-300の構造上の特長

    • 多重倍率光学表示システム
    • 12インチ、8インチ、6インチ、4インチのウェハー試験および破片試験に対応
    • 内部空気サスペンションシステム、効果的に外部の振動を遮断
    • 統合制御システム、迅速な計測機器へのアクセス
    • ソフトウェアの自動テスト、機械精度の精密な校正
    • X-Y軸移動速度:70mm/秒、繰り返し位置決め精度:≤±1μm
    • Z軸移動速度:20mm/秒、Z軸繰り返し位置決め精度:≤±μm
    • R軸の精度0.0001°、繰り返し位置決め精度:≦±1μm